活性炭吸附設備原理

    活性炭是一種很細小的炭粒 有很大的表面積，而且炭粒中還有更細小的孔——毛細管。這種毛細管具有很強的吸附能力，由于炭粒的表面積很大，所以能與氣體（雜質(zhì)）充分接觸。當這些氣體（雜質(zhì)）碰到毛細管被吸附，起凈化作用?；钚蕴课教幚硇矢?，適用廣泛，操作簡單，投資費用低。系統(tǒng)風壓損失大，使得能耗較高，吸附劑的飽和點難掌握，吸附劑容量有限，運行費用包括固廢回收成本較高。對于漆霧處理，活性炭易堵塞，整體利用率不高。

光催化設備原理

光催化是在一定波長光照條件下,半導體材料發(fā)生光生載流子的分離,然后光生電子和空穴再與離子或分子結(jié)合生成具有氧化性或還原性的活性自由基,這種活性自由基能將有機物大分子降解為二氧化碳或其他小分子有機物以及水,在反應過程中這種半導體材料也就是光催化劑本身不發(fā)生變化。

 半導體光催化劑大多是n型半導體材料（當前以為TiO2使用廣泛）都具有區(qū)別于金屬或絕緣物質(zhì)的特別的能帶結(jié)構(gòu),即在價帶(ValenceBand,VB)和導帶(ConductionBand,CB)之間存在一個禁帶(ForbiddenBand,BandGap)。由于半導體的光吸收閾值與帶隙具有式K=1240/Eg(eV)的關(guān)系,因此常用的寬帶隙半導體的吸收波長閾值大都在紫外區(qū)域。當光子能量高于半導體吸收閾值的光照射半導體時,半導體的價帶電子發(fā)生帶間躍遷,即從價帶躍遷到導帶,從而產(chǎn)生光生電子(e-)和空穴(h+)。此時吸附在納米顆粒表面的溶解氧俘獲電子形成超氧負離子,而空穴將吸附在催化劑表面的氫氧根離子和水氧化成羥基自由基。而超氧負離子和羥基自由基具有很強的氧化性,能將絕大多數(shù)的有機物氧化至產(chǎn)物CO2和H2O,甚至對一些無機物也能徹底分解。

針對有機溶劑揮發(fā)產(chǎn)生的有機氣體凈化效率高，維護簡單，使用壽命長，設備安全可靠，不會如低溫等離子設備產(chǎn)生電火花引起安全事故。